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日本thermo高溫材料用紅外線真空爐

日本thermo高溫材料用紅外線真空爐

產(chǎn)品型號(hào)： IVF198RV

所屬分類(lèi)：

產(chǎn)品時(shí)間：2024-09-07

簡(jiǎn)要描述：日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV
利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置，可以容易地進(jìn)行通過(guò)紅外加熱和清潔加熱的快速加熱。
一種臺(tái)式紅外真空爐，由紅外輻射部分，真空室，程序溫度控制器和安全裝置組成

詳細(xì)說(shuō)明：

日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV

 

說(shuō)明?

利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置，可以容易地進(jìn)行通過(guò)紅外加熱和清潔加熱的快速加熱。
一種臺(tái)式紅外真空爐，由紅外輻射部分，真空室，程序溫度控制器和安全裝置組成。
有真空室型和石英管法蘭型。

特點(diǎn)

 

大加熱速度為150℃/秒，加熱時(shí)間為1500℃約1min
清潔加熱，不影響從熱源散發(fā)的氣體或電磁感應(yīng)
可以選擇觀察熱樣品。

用途?

真空/氣流中的樣品退火
半導(dǎo)體樣品（例如硅和SiC）和氧化物的熱處理
石墨烯和CNT加熱
高溫材料（例如高耐熱金屬和陶瓷）的溫升測(cè)試
在氧氣，氫氣等氣流中退火
潤(rùn)濕性測(cè)試

日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV

規(guī)格

紅外真空爐IVF系列具有以下規(guī)格的產(chǎn)品。
  
 
　石英管類(lèi)型房車(chē)類(lèi)型　加熱氣流中樣品的理想選擇。
　面對(duì)面照射石英管型簡(jiǎn)歷類(lèi)型　從上方和下方照射紅外線。
　用于加熱固體和粉末。
　聚焦照射方式W型　由于開(kāi)口較寬，因此易于打開(kāi)和關(guān)閉樣品。
　帶有端口的大量腔室可用于各種實(shí)驗(yàn)。
　表面照射類(lèi)型P型/ PD型　用于加熱2英寸大小的樣品。
  
 
　石英管式紅外真空爐IVF-RV型
型號(hào)名稱(chēng)IVF198RVIVF298RV
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　gao溫度1400°攝氏度1600°攝氏度
　加熱面積φ20毫米
　大加熱速度50°C /秒100°C /秒
　大極限真空5×10 -4帕
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘

　面對(duì)面照射石英管式紅外真空爐IVF-CV型

型號(hào)名稱(chēng)IVF198CVIVF298CV
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　gao溫度1500°攝氏度1700°攝氏度
　加熱面積φ10毫米x 10毫米φ15毫米x 10毫米
　大加熱速度50°C /秒100°C /秒
　大極限真空5×10 -4帕
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘

聚焦輻照紅外真空爐IVF-W

型號(hào)名稱(chēng)IVF198WIVF298W
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　gao溫度1300°攝氏度1500°攝氏度
　加熱面積?φ20毫米
　大加熱速度50°C /秒100°C /秒
　大極限真空5×10 -4帕
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘

表面照射型紅外線真空爐IVF-P / PD型

型號(hào)名稱(chēng)IVF29PIVF29PDIVF39PD
　紅外燈額定值2千瓦2千瓦x 23千瓦x 2
　gao溫度800°攝氏度1000°攝氏度1200°攝氏度
　加熱面積φ50毫米
　大加熱速度20°C /秒50°C /秒
　大極限真空5×10 -4 P
　冷水量2升/分鐘

 



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